工程學科Engineering100022
使用電漿輔助化學氣相沉積及雷射退火於玻璃基板上成長結晶鍺薄膜 Taiwan
單晶矽被認為是製造太陽能電池的最佳材料,因為它在地球上儲量豐富且具有優異的光電性能,但其大量的應用受限於其成本和轉換效率。 單晶矽太陽能電池通常通過將單晶矽晶柱切割成350到450微米的切片來製造。現有的技術方法無法將其縮小到更小的規模,因此其發展面臨著開發複雜製造工藝和高單晶矽片生產成本的障礙。近來,在便宜玻璃基板上製備的薄膜太陽能電池成為重要的發展方向,可以減少矽層厚度來降低成本和材料消耗,同時可以有效減少載流子的複合,進一步能夠提高轉換效率。 本研究成功通過電漿輔助化學氣相沉積在玻璃基板上生長出非晶鍺薄膜,並利用雷射退火將非晶鍺薄膜轉化為多晶鍺薄膜,接著將進一步發展控制退火過程溫度的時間空間演化,以進一步做出高品質單晶鍺與矽薄膜,並應用在超薄膜太陽能電池上。